The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Libros - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662496817 - 22 de junio de 2016
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The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses 1st ed. 2016 edition

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73 pages, 3 black & white illustrations, 49 colour illustrations, biography

Medios de comunicación Libros     Hardcover Book   (Libro con lomo y cubierta duros)
Publicado 22 de junio de 2016
ISBN13 9783662496817
Editores Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Páginas 59
Dimensiones 155 × 235 × 12 mm   ·   349 g
Lengua Alemán  

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