Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices - Young-Hee Kim - Libros - Springer International Publishing AG - 9783031014246 - 31 de diciembre de 2007
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Young-Hee Kim
Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices

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Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).

92 pages, X, 92 p.

Medios de comunicación Libros     Paperback Book   (Libro con tapa blanda y lomo encolado)
Publicado 31 de diciembre de 2007
ISBN13 9783031014246
Editores Springer International Publishing AG
Páginas 92
Dimensiones 150 × 220 × 10 mm   ·   212 g
Lengua Inglés  

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